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產(chǎn)品中心

product center

  • 202111-15
    Harrick等離子清洗機(jī)的運(yùn)行過程如下

    Harrick等離子清洗機(jī)為一種綠色無污染的高精密干法清洗方式,可以有效去除表面污染物,避免靜電損傷。在集成電路的制程中,會產(chǎn)生許多種類的污染物,包括氟化樹脂、氧化物、環(huán)氧樹脂、焊料、光刻蝕劑等,這些污染物將嚴(yán)重影響集成電路及其元器件的可靠...

  • 202110-18
    高功率等離子清洗機(jī)的運(yùn)行過程如下

    高功率等離子清洗機(jī)采用氣體作為清洗介質(zhì),有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。等離子清洗機(jī)外接一臺真空泵,工作時清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面,短時間的清洗就可以使有機(jī)污染物被*地清洗掉,同時污染物被真空泵抽走,其清...

  • 20219-26
    微波等離子去膠機(jī)的使用方法

    微波等離子去膠機(jī)是一個典型的勻膠過程,其中包括滴膠,高速旋轉(zhuǎn)以及干燥(溶劑揮發(fā))幾個步驟。滴膠這一步把光刻膠滴注到基片表面上,高速旋轉(zhuǎn)把光刻膠鋪展到基片上形成簿層,干燥這一步除去膠層中多余的溶劑。兩種常用的滴膠方式是靜態(tài)滴膠和動態(tài)滴膠。靜態(tài)...

  • 20218-24
    刻蝕顯影清洗系統(tǒng)清洗流程解析

    在平板顯示產(chǎn)品的制程中,隨著工藝層數(shù)的增加和產(chǎn)品精度的提高,光刻制程相比過去顯得越發(fā)重要。在光刻制程的過程中,顯影單元作為刻蝕設(shè)備的主要單元之一,將曝光區(qū)域或未曝光區(qū)域進(jìn)行溶解,以保留另外區(qū)域,從而將圖案顯現(xiàn)出來。顯影單元在顯影制程中需循環(huán)...

  • 20217-23
    等離子清洗機(jī)是利用等離子體來達(dá)到常規(guī)清洗方法無法達(dá)到的效果

    等離子清洗機(jī)也叫等離子表面處理儀,是一種全新的高科技技術(shù),利用等離子體來達(dá)到常規(guī)清洗方法無法達(dá)到的效果。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括:離子、電子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子清...

  • 202010-24
    總結(jié)等離子清洗機(jī)的基本內(nèi)容

    等離子清洗機(jī)在清洗時通入工作氣體在電磁場的作用下所激發(fā)的等離子與物體表面產(chǎn)生物理反應(yīng)和化學(xué)反應(yīng)。其中,物理反應(yīng)機(jī)制是活性粒子轟擊待清洗表面,使污染物脫離表面終被真空泵吸走;化學(xué)反應(yīng)機(jī)制是各種活性的粒子和污染物反應(yīng)生成易揮發(fā)性的物質(zhì),再由真空...

  • 20209-18
    霍爾效應(yīng)測試儀的相關(guān)內(nèi)容普及

    霍爾效應(yīng)測試儀介紹:基本原理:利用霍爾效應(yīng)可以測量半導(dǎo)體材料的導(dǎo)電特性,從而獲得載流子濃度、遷移率、電阻率、霍爾系數(shù)、導(dǎo)電類型等重要參數(shù)。當(dāng)電流垂直于外磁場通過導(dǎo)體時,載流子發(fā)生偏轉(zhuǎn),垂直于電流和磁場的方向會產(chǎn)生一附加電場,從而在導(dǎo)體的兩端...

  • 20208-14
    快速退火爐是節(jié)能型周期作業(yè)退火爐

    快速退火爐可選擇單設(shè)定點(diǎn)或30段可編程控制快速退火爐器。節(jié)能型的陶瓷纖維材料和雙層結(jié)構(gòu),可將外表溫度降到常溫。均溫區(qū)長,操作簡便,密封可靠,綜合性能指標(biāo)較高。爐管可選擇配置耐熱鋼、石英玻璃、陶瓷管等材料。其的主要特點(diǎn)有:可在真空/不同氣氛/...

  • 20207-24
    石英晶體微分析儀兩種使用模式

    石英晶體微分析儀在液體中的應(yīng)用展示了巨大的潛力。QCM在功能化表面測量綁定事件是非常有效的,比如抗體-抗原綁定,蛋白間反應(yīng)。儀器在生命科學(xué)領(lǐng)域是非常強(qiáng)大的工具,可以檢測DAN雜化與*的藥物化合物,以上僅僅是部分應(yīng)用,更多的應(yīng)用取決于你想在實...

  • 20206-23
    勻膠旋涂機(jī)使用步驟分析解讀

    勻膠旋涂機(jī)的工作原理是高速旋轉(zhuǎn)基片,利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上,甩膠機(jī)常用于各種溶膠凝膠(Sol-Gel)實驗中的薄膜制作,厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同,也和旋轉(zhuǎn)速度及時間有關(guān)。勻膠旋涂機(jī)適應(yīng)于半導(dǎo)體硅片,載玻片...

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