光學(xué)元件原子級清洗鍍膜系統(tǒng)

光學(xué)元件原子級拋光鍍膜設(shè)備概述：NANO-MASTER 離子束清洗拋光-磁控濺射鍍膜系統(tǒng)提供*進(jìn)的技術(shù)，在一個腔體中實(shí)現(xiàn)原子級清洗和光學(xué)樣片拋光，然后把樣片傳送到第二級腔體中對同一樣片進(jìn)行表面涂覆，整個過程不間斷真空。系統(tǒng)的設(shè)計(jì)也可以支持其中任一個腔體的單獨(dú)使用，同時具備各自的自動上/下載片功能。

光學(xué)元件原子級拋光鍍膜設(shè)備應(yīng)用

Optical Coatings 光學(xué)涂層
Sputtering  濺射
IBAD  IBAD離子束輔助沉積
Ion Beam Etching Cleaning  離子束刻蝕清洗
Ion Beam Assisted Reactive Etching 離子束輔助反應(yīng)刻蝕
Infrared Coatings  紅外涂層
Surface Treatment   表面處理
產(chǎn)品特點(diǎn):

RF Biasable Platen  RF射頻偏壓樣品臺
Thickness Monitor   膜厚監(jiān)測儀
5x10-7 Torr Base Pressure  極限真空5x10-7Torr
High Accuracy and Repeatability  高精度及高重復(fù)性
High Quality Films  高品質(zhì)膜層
Atomic Level Clean Surfaces   原子級的潔凈表面
Atomic Cleaning and Polishing  原子級清洗和拋光
PC Controlled with LabVIEW  通過LabView軟件實(shí)現(xiàn)PC計(jì)算機(jī)全自動控制
Automatic Load/Unload  自動上下載片
Automatic Transfer Between Chambers  兩個腔體之間自動傳送
Recipe Driven, Password Protected 菜單驅(qū)動，4級密碼訪問保護(hù)
Safety Interlocks 完整的安全聯(lián)鎖
46”D x 44”W Footprint  占地面積46”D x 44”W
選配項(xiàng):

Sputter Down/Up  向下/向上濺射
Co-Sputtering 共濺射
DC, RF and Pulsed Power Supplies  DC，RF以及脈沖電源
Ion Beam Assisted Deposition 離子束輔助沉積
E-Beam Sources 電子束源
Plasma Sources 等離子源