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  • NSC-1000磁控濺射系統(tǒng)
    NSC-1000磁控濺射系統(tǒng)

    NSC-1000磁控濺射系統(tǒng):帶有水冷或者加熱(Z高可加熱到700度)功能,Z大到6“旋轉(zhuǎn)平臺(tái),Z大可支持到2個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵,極限真空可達(dá)10-7 Torr,15分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6 Torr的真空。通過調(diào)整磁控管與基片之間的距離,可以獲得想要的均勻度和沉積速度。

    更新時(shí)間:2017-03-03型號(hào):瀏覽量:1331
  • NSC-3000(M)磁控濺射系統(tǒng)
    NSC-3000(M)磁控濺射系統(tǒng)

    NSC-3000(M)磁控濺射系統(tǒng):帶有水冷或者加熱(Z高可加熱到700度)功能,Z大到6“旋轉(zhuǎn)平臺(tái),Z大可支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵,極限真空可達(dá)10-7 Torr,15分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6 Torr的真空。通過調(diào)整磁控管與基片之間的距離,可以獲得想要的均勻度和沉積速度。

    更新時(shí)間:2017-03-03型號(hào):瀏覽量:1284
  • NSC-3000(A)全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)
    NSC-3000(A)全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)

    NSC-3000(A)全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng):臺(tái)式自動(dòng)系統(tǒng),帶有水冷或者加熱(Z高可加熱到700度)功能,Z大到6“旋轉(zhuǎn)平臺(tái),Z大可支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵,極限真空可達(dá)10-7 Torr,15分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6 Torr的真空。通過調(diào)整磁控管與基片之間的距離,可以獲得想要的均勻度和沉積速度。

    更新時(shí)間:2017-03-03型號(hào):瀏覽量:1331
  • NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機(jī)
    NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機(jī)

    NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機(jī):*進(jìn)的全自動(dòng)濺射系統(tǒng)帶有水冷或者加熱(Z高可加熱到700度)功能的8“旋轉(zhuǎn)樣平臺(tái),Z大可支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵,極限真空可達(dá)10-7 Torr,15分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6 Torr的真空。通過使用RF射頻開關(guān),RF射頻或DC直流電源可以切換到多磁控管模式。通過調(diào)整磁控管與基片之間的距離,可以獲得想要的均勻度和沉積速度。

    更新時(shí)間:2017-03-03型號(hào):瀏覽量:3024
  • NSC-3500(M)磁控濺射系統(tǒng)
    NSC-3500(M)磁控濺射系統(tǒng)

    NSC-3500(M)磁控濺射系統(tǒng):帶有水冷或者加熱(Z高可加熱到700度)功能,Z大到8“旋轉(zhuǎn)平臺(tái),Z大可支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵,極限真空可達(dá)10-7 Torr,15分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6 Torr的真空。通過調(diào)整磁控管與基片之間的距離,可以獲得想要的均勻度和沉積速度。

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