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單晶圓兆聲清洗機(jī)

簡(jiǎn)要描述：兆聲晶圓清洗機(jī)：
First-Nano 兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及*進(jìn)的兆聲清洗。它可以在一個(gè)工藝步驟中包含了的無(wú)損兆聲清洗、化學(xué)試劑清洗、刷子清洗以及干燥功能。

產(chǎn)品型號(hào)： SWC-4000

所屬分類：?jiǎn)纹A兆聲清洗機(jī)

更新時(shí)間：2017-07-12

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

詳情介紹

SWC-4000兆聲晶圓清洗：

SWC-4000兆聲晶圓清洗機(jī)應(yīng)用：

  • 帶圖案或不帶圖案的掩模版和晶圓片
  • Ge, GaAs以及InP晶圓片清洗
  • CMP處理后的晶圓片清洗
  • 晶圓框架上的切粒芯片清洗
  • 等離子刻蝕或光刻膠剝離后的清洗
  • 帶保護(hù)膜的分劃版清洗
  • 掩模版空白部位或接觸部位清洗
  • X射線及極紫外掩模版清洗
  • 光學(xué)鏡頭清洗
  • ITO涂覆的顯示面板清洗
  • 兆聲輔助的剝離工藝

SWC-4000兆聲晶圓清洗機(jī)的特點(diǎn)：

  • 支持12"直徑的圓片或9"x9"方片
  • 獨(dú)立系統(tǒng)
  • 無(wú)損兆聲,試劑，毛刷清洗及旋轉(zhuǎn)甩干
  • 微處理機(jī)自動(dòng)控制
  • 化學(xué)試劑滴膠單元
  • 溶劑與酸分離排廢
  • 熱氮
  • 30"D x 26"W 的占地面積

SWC-4000兆聲晶圓清洗機(jī)選配項(xiàng)：

  • 掩模板或晶圓片夾具
  • 臭氧清洗
  • PVA軟毛刷清洗
  • 高壓DI清洗
  • 氮?dú)怆x子發(fā)生器

客戶可以根據(jù)基板尺寸的大小訂制不同的兆聲清洗系統(tǒng)，如有技術(shù)咨詢，請(qǐng)及時(shí)：



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