等離子清洗機采用氣體作為清洗介質(zhì),能夠有效地避免液體清洗介質(zhì)對清洗物產(chǎn)生的二次污染。外接的真空泵,清洗腔中等離子體沖刷被洗物的表面,短時間就能夠?qū)⒂袡C污染物*清洗掉,于此同時,污染物還被真空泵抽走,這樣就達到了清洗的目的。在特定的環(huán)境中,可以根據(jù)不同的材料表面改變其性能。等離子體作用于表面,使材料的表面分子化學(xué)鍵發(fā)生重組,來形成新的表面特性。
等離子清洗機處理的優(yōu)點:
*去除殘留的有機雜質(zhì)和有機污染物
*準備的表面(如薄膜沉積或吸附的分子隨后處理)
*等離子清洗機能夠改善表面涂層覆蓋面和傳播,加強兩者之間的表面附著力
*修改潤濕使表面親水性或疏水與適當?shù)墓に嚉怏w
*受影響的只是表面,不改變材料的大部分特性
*等離子清洗機能改善多種材料以及復(fù)雜曲面幾何形狀。
等離子清洗機的工藝的目的是要是引線拉力強度zui大,因而減少失效和提高合格率。在做到這一點的同時,又要盡量不影響封裝生產(chǎn)線的產(chǎn)量。因此關(guān)鍵的是要通過審慎地選擇工藝氣體、操作壓力、時間和等離子功率來優(yōu)化等離子工藝。如果工藝條件選擇不當,可能造成引線接合強度的改善有限,或者甚至降低引線接合強度。利用等離子清洗機在集成電路中的清潔時也要合理的使用工藝氣體,壓力,和等離子功率等,都需要謹慎的選擇,以至于達到更好的效果。
等離子清洗機的技術(shù)是一新興的領(lǐng)域,該領(lǐng)域結(jié)合等離子物理、等離子化學(xué)和氣固相界面的化學(xué)反應(yīng),此為典型的高科技產(chǎn)業(yè),需跨多種領(lǐng)域,包括化工、材料和電機,因此將挑戰(zhàn)性,也充滿機會,由于半導(dǎo)體和光電材料在未來得快速成長,此方面應(yīng)用需求將越來越大。