發(fā)布時間: 2017-10-20 點(diǎn)擊次數(shù): 1544次
Harrick等離子清洗機(jī)采用電感耦合高密度等離子體(ICP),能快速去除晶圓上之殘留光阻(光刻膠),達(dá)到晶圓表面潔凈,Harrick等離子清洗機(jī)具有蝕刻率高,無電極污染,離子能量低,不損傷基板等優(yōu)點(diǎn)。
Harrick等離子清洗機(jī)的結(jié)構(gòu)組成,主要都是由兩個部分組成:
一是,等離子發(fā)生器,該部分由集成電路、運(yùn)行控制、等離子發(fā)生電源、氣源處理、安全防護(hù)等組成。
二是,等離子處理裝置,該部分由激發(fā)電極、激發(fā)氣路等組成。
Harrick等離子清洗機(jī)預(yù)處理工藝的優(yōu)點(diǎn):
?。薄⒈砻婊罨浅S行Ф揖鶆?,所處理的表面上不會有熱量累積。
?。病o外殼變形
?。场⒖山档捅诤?,節(jié)省了材料
?。?、可以處理整個粘接面,包括膠槽底部和側(cè)壁
?。?、整個接合表面的預(yù)處理,包括凹槽的根部和側(cè)壁
Harrick等離子清洗機(jī)產(chǎn)生等離子體的裝置是在密封容器中設(shè)置兩個電極形成電場,用真空泵實(shí)現(xiàn)一定的真空度,隨著氣體愈來愈稀薄,分子間距及分子或離子的自由運(yùn)動距離也愈來愈長,受電場作用,它們發(fā)生碰撞而形成等離子體,這時會發(fā)出輝光,故稱為輝光放電處理。 輝光放電時的氣壓大小對材料處理效果有很大,影響另外與放電功率,氣體成分及流動速度、材料類型等因素有關(guān)。