在平板顯示產(chǎn)品的制程中，隨著工藝層數(shù)的增加和產(chǎn)品精度的提高，光刻制程相比過去顯得越發(fā)重要。在光刻制程的過程中，顯影單元作為刻蝕設(shè)備的主要單元之一，將曝光區(qū)域或未曝光區(qū)域進行溶解，以保留另外區(qū)域，從而將圖案顯現(xiàn)出來。顯影單元在顯影制程中需循環(huán)使用顯影液，即顯影液在將基板上部分光刻膠溶解后回流到顯影槽。隨著顯影液的使用次數(shù)的增加，顯影液中光刻膠的成分升高，久而久之，顯影槽的四周的內(nèi)壁會殘留反應(yīng)后的光刻膠。由于殘留的光刻膠會影響顯影槽內(nèi)的潔凈度，嚴重時會直接污染產(chǎn)品，使顯影槽需定期清潔。

　　刻蝕顯影清洗系統(tǒng)流程：脫脂→水洗→微蝕→水洗→酸洗→水洗→烘干?；瘜W清洗的目的：獲得一層潔凈、新鮮的銅面。使銅面具有一定的粗糙度，增加板面與干膜的結(jié)合力。該系統(tǒng)包括殼體、主管道、噴淋管路、電磁閥、噴淋裝置、排液管道以及快速供液管道，殼體具有顯影槽；主管道的一端伸入殼體內(nèi)并與顯影槽連通，主管道用于供給顯影液；噴淋管路包括相連通的噴淋管道主體和支管道，噴淋管道主體與主管道連通；電磁閥設(shè)置于支管道上。

　　噴淋裝置與支管道的背離噴淋管路主體的端部連通，噴淋裝置設(shè)置于殼體上，且噴淋裝置位于顯影槽內(nèi)，噴淋裝置用于在清洗顯影槽時噴灑顯影液；排液管道與顯影槽連通。排液管道用于在清洗顯影槽之后排出顯影槽內(nèi)的顯影液，使顯影液快速排出殼體之外，整個清洗過程中無需打開密封蓋，避免了顯影單元存在嚴重的質(zhì)量和安全隱患的問題。

　　刻蝕顯影清洗系統(tǒng)顯影機：感光膜中未曝光部分的活性基團與稀堿溶液反應(yīng)生成可溶性物質(zhì)而溶解下來，顯影時活性基團羧基一COOH與無水碳酸鈉溶液中的Na+作用，生成親水性集團一COONa。從而把未曝光的部分溶解下來，而曝光部分的干膜不被溶脹。顯影點控制；顯影點離顯影段出口太近，未聚合的抗蝕膜得不到充分的清潔顯影，抗蝕劑的殘余可能留在板面顯影點離顯影段的入口太近，已聚合的于膜由于與顯影液過長時間的接觸，可能被浸蝕而變得發(fā)毛，失去光澤。通常顯影點控制在顯影段總長度的50%-60%之內(nèi)。