發(fā)布時(shí)間: 2021-10-18 點(diǎn)擊次數(shù): 847次
高功率等離子清洗機(jī)采用氣體作為清洗介質(zhì),有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來(lái)的二次污染。等離子清洗機(jī)外接一臺(tái)真空泵,工作時(shí)清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面,短時(shí)間的清洗就可以使有機(jī)污染物被*地清洗掉,同時(shí)污染物被真空泵抽走,其清洗程度達(dá)到分子級(jí)。等離子清洗器除了具有超清洗功能外,在特定條件下還可根據(jù)需要改變某些材料表面的性能,等離子體作用于材料表面,使表面分子的化學(xué)鍵發(fā)生重組,形成新的表面特性。
對(duì)某些有特殊用途的材料,在超清洗過(guò)程中等離子清洗器的輝光放電不但加強(qiáng)了這些材料的粘附性、相容性和浸潤(rùn)性,并可消毒和殺菌。等離子清洗器廣泛應(yīng)用于光學(xué)、光電子學(xué)、電子學(xué)、材料科學(xué)、生命科學(xué)、高分子科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域。
高功率等離子清洗機(jī)的基本構(gòu)造,根據(jù)用途的不同,可選用多種構(gòu)造的等離子清洗設(shè)備,并可通過(guò)選用不同種類的氣體,但等離子體清洗裝置的基本結(jié)構(gòu)大致是相同的,一般裝置可由真空室、真空泵、高頻電源、電極、氣體導(dǎo)入系統(tǒng)、工件傳送系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等部分組成。通常使用的真空泵是旋轉(zhuǎn)油泵,高頻電源通常用13.56M赫茲的無(wú)線電波,設(shè)備的運(yùn)行過(guò)程如下:
?。?)被清洗的工件送入真空室并加以固定,啟動(dòng)運(yùn)行裝置,開(kāi)始排氣,使真空室內(nèi)的真空程度達(dá)到10Pa左右的標(biāo)準(zhǔn)真空度。一般排氣時(shí)間大約需要2min。
?。?)向真空室引入等離子清洗用的氣體,并使其壓力保持在100Pa。
根據(jù)清洗材質(zhì)的不同,可分別選用氧氣、氫氣、氬氣或氮?dú)獾葰怏w。
?。?)在真空室內(nèi)的電極與接地裝置之間施加高頻電壓,使氣體被擊穿,并通過(guò)輝光放電而發(fā)生離子化和產(chǎn)生等離子體。讓在真空室產(chǎn)生的等離子體*籠罩在被處理工件,開(kāi)始清洗作業(yè)。一般清洗處理持續(xù)幾十秒到幾分鐘。
?。?)清洗完畢后切斷高頻電壓,并將氣體及汽化的污垢排出,同時(shí)向真空室內(nèi)鼓入空氣,并使氣壓升至一個(gè)大氣壓。