等離子清洗機是一種干法清洗，主要清洗很微小的氧化物和污染物。等離子清洗機是用工作氣體在電磁場的作用下激發(fā)出等離子體與物體表面產(chǎn)生物理和化學(xué)反應(yīng)，從而達到清洗的目的。
　　因為等離子清洗機的成本較低而且操作簡單靈活，可以方便的變更處理氣體的種類和處理工藝參數(shù)；使用過程中不會給操作人員的身體帶來任何的不良；對于等離子處理方式來說，等離子清洗機的成本是十分低廉的，具有客觀的性價比和優(yōu)勢；從環(huán)保的角度考慮，等離子清洗機的整個處理過程都是無污染無公害，綠色環(huán)保的。
　　等離子清洗機產(chǎn)品特點：
　　1.環(huán)保技術(shù)：等離子體作用過程是氣- 固相干式反應(yīng) ,不消耗水資源、無需添加化學(xué)藥劑,對環(huán)境無污染。
　　2.廣適性：不分處理對象的基材類型,均可進行處理,如金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料都能很好地處理；
　　3.溫度低：接近常溫，特別適于高分子材料，比電暈和火焰方法有較長保存時間和較高表面張力。
　　4.功能強：僅涉及高分子材料淺表面（10 -1000A ），可在保持材料自身特性的同時，賦予其一種或多種新的功能；
　　5.低成本：裝置簡單，易操作維修，可連續(xù)運行，往往幾瓶氣體就可以代替數(shù)千公斤清洗液,因此清洗成本會大大低于濕法清洗。
　　6.全過程可控工藝：所有參數(shù)可由PLC設(shè)置和數(shù)據(jù)記錄，進行質(zhì)量控制。
　　7.處理物幾何形狀無限制：大或小，簡單或復(fù)雜，部件或紡織品，均可處理。
　　等離子清洗機的原理以及過程？
　　在真空狀態(tài)下，壓力越來越小，分子間間距越來越大，分子間力越來越小，利用高頻源產(chǎn)生的高壓交變電場將氧、氬、氫、四氟化碳等工藝氣體震蕩成具有高反應(yīng)活性或高能量的等離子體，然后與有機污染物及微顆粒污染物反應(yīng)或碰撞形成揮發(fā)性物質(zhì)，然后由工作氣體流及真空泵將這些揮發(fā)性物質(zhì)清除出去，從而達到表面清潔、活化等目的。