高真空熱蒸發(fā)鍍膜儀一種超真空蒸發(fā)涂布機，設(shè)計用于涂覆氧氣敏感的金屬材料，如Ti、Al和Ir等。它還可用于涂覆各種材料。產(chǎn)品有四個蒸發(fā)加熱器源，同時在高達10-6托的高真空下涂覆兩種材料。對于研究實驗室來說，它是一種具有成本效益的涂膜機。特別適合場發(fā)射電鏡、透射電鏡制樣及制作無定形碳覆形膜/TEM柵網(wǎng)支持膜，也可為薄膜應(yīng)用等材料領(lǐng)域提供理想的鍍膜平臺。
高真空熱蒸發(fā)鍍膜儀是一款高真空緊湊型熱蒸發(fā)鍍膜儀，蒸發(fā)溫度從200℃到1700℃，采用鎢絲籃作為蒸發(fā)源，蒸發(fā)源外套高純氧化鋁坩堝。上蓋裝有可旋轉(zhuǎn)的樣品臺，能夠有效提高成膜的均勻度。儀器擁有高精度的溫度控制系統(tǒng)，采用循環(huán)加熱方式，能夠穩(wěn)定蒸發(fā)金屬及有機物。采用不銹鋼高真空腔體設(shè)計，配高精度分子泵，能夠達到高真空要求，較高的真空度能夠有效提升蒸發(fā)鍍膜的效率及質(zhì)量。
產(chǎn)品是專為掃描電鏡和電子探針等進行試樣制備的設(shè)備。可以在高純氬氣保護下進行多種離子處理，也可真空蒸碳和真空蒸金屬。用于樣品的外貌觀察，尤其對成份定量分析更為適宜。采用分子泵系統(tǒng)，特別適于對真空要求高，真空環(huán)境好的用戶選用。應(yīng)用領(lǐng)域：離子噴涂、離子濺射、離子清洗、真空蒸碳、真空蒸金屬等工作。
高真空熱蒸發(fā)鍍膜儀特別適合蒸鍍一些對氧較敏感的金屬膜，如Ti, Al 和Au等，也可蒸鍍各種氧化物材料。此款蒸鍍儀安裝有4個蒸鍍加熱頭.對于實驗研究，這是一款鍍膜效果理想并且性價比較高的實驗設(shè)備。
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