AT-400原子層沉積是指通過(guò)將氣相前驅(qū)體交替脈沖通入反應(yīng)室并在沉積基體表面發(fā)生氣固相化學(xué)吸附反應(yīng)形成薄膜的一種方法原子層沉積過(guò)程由A、B兩個(gè)半反應(yīng)分四個(gè)基元步驟進(jìn)行：1）前驅(qū)體A脈沖吸附反應(yīng)；2）惰氣吹掃多余的反應(yīng)物及副產(chǎn)物；3）前驅(qū)體B脈沖吸附反應(yīng)；4）惰氣吹掃多余的反應(yīng)物及副產(chǎn)物，然后依次循環(huán)從而實(shí)現(xiàn)薄膜在襯底表面逐層生長(zhǎng)。

　　基于原子層沉積的原理，利用原子層沉積制備高質(zhì)量薄膜材料，三大要素*：

　　1）前驅(qū)體需滿足良好的揮發(fā)性、足夠的反應(yīng)活性以及一定熱穩(wěn)定性，前驅(qū)體不能對(duì)薄膜或襯底具有腐蝕或溶解作用；

　　2）前驅(qū)體脈沖時(shí)間需保證單層飽和吸附；

　　3）沉積溫度應(yīng)保持在ALD窗口內(nèi)，以避免因前驅(qū)體冷凝或熱分解等引發(fā)CVD生長(zhǎng)從而使得薄膜不均勻。

　　AT-400原子層沉積技術(shù)，亦稱原子層外延(atomiclayerepitaxy，ALE）技術(shù)，是一種基于有序、表面自飽和反應(yīng)的化學(xué)氣相薄膜沉積技術(shù)。原子層沉積技術(shù)起源于上世紀(jì)六七十年代，由前蘇聯(lián)科學(xué)家Aleskovskii和Koltsov報(bào)道，隨后，基于電致發(fā)光薄膜平板顯示器對(duì)高質(zhì)量ZnS:Mn薄膜材料的需求，由芬蘭Suntalo博士發(fā)展并完善。然而，受限于其復(fù)雜的表面化學(xué)過(guò)程等因素，原子層沉積技術(shù)在開始并沒(méi)有取得較大發(fā)展，直到上世紀(jì)九十年代，隨著半導(dǎo)體工業(yè)的興起，對(duì)各種元器件尺寸，集成度等方面的要求越來(lái)越高，原子層沉積技術(shù)才迎來(lái)發(fā)展的黃金階段。進(jìn)入21世紀(jì)，隨著適應(yīng)各種制備需求的商品化ALD儀器的研制成功，無(wú)論在基礎(chǔ)研究還是實(shí)際應(yīng)用方面，原子層沉積技術(shù)都受到人們?cè)絹?lái)越多的關(guān)注。