高功率等離子清洗機(jī)的清洗原理是根據(jù)電離氣體將來自清洗源被固定在表面的化合物轉(zhuǎn)變?yōu)闊o害的氣體?；诟哳l電離氣體產(chǎn)生等離子體的設(shè)備，用于清洗表面污染物以及去除表面化學(xué)物質(zhì)。這種清洗方法很適用于那些高負(fù)荷、密集成分的部件和微型裝置元件?？梢圆扇「稍锴逑?，采用氧氣作為清洗氣體，并形成大約0.5~1的等離子弧，在空間中形成的氧氣離子使已經(jīng)吸附在材料表面的污垢加熱、膨脹并燃燒。這樣，污垢就被轉(zhuǎn)化為氣態(tài)氧化產(chǎn)物并被沖入大氣中。此過程溫度升至數(shù)百℃，并同時接近平衡電子、陰離子、陽離子等離子體間的化學(xué)反應(yīng)。清洗完成后實現(xiàn)凈化表面，并還原其基本性能。
 

　　高功率等離子清洗機(jī)特點(diǎn)：
 

　　1.速度快：與其他傳統(tǒng)清潔方式相比，誤差小，時間短，而且可清洗復(fù)雜結(jié)構(gòu)部分內(nèi)側(cè)的污垢；
 

　　2.效果好：手術(shù)器械和半導(dǎo)體制造業(yè)對表面微觀結(jié)構(gòu)和化學(xué)純潔度的要求高，在傳統(tǒng)清洗方式下難以達(dá)到要求，然而等離子清洗可以更好地滿足要求；
 

　　3.安全性高：使用使不需要涂抹化學(xué)清潔劑，避免了其他清洗方式清潔劑溢出所帶來的風(fēng)險。
 

　　高功率等離子清洗機(jī)廣泛應(yīng)用于精密儀器、高負(fù)荷、密集元件的清洗、半導(dǎo)體產(chǎn)品生產(chǎn)過程中，以及醫(yī)學(xué)器械消毒清洗、車輛發(fā)動機(jī)清洗、核聚變研究方面等。通過頂部入口將待清洗器件放入等離子體中，在清洗時無需接觸或刷洗待處理的部件，杜絕了劃傷、佩戴和損壞等問題并保證其表面特征。清洗后，設(shè)備監(jiān)測器將停止平行放電，關(guān)閉電容器并自動向放電電路注入電路支持大流量，直到排出殘留物質(zhì)。