等離子清洗機(jī)原理是在真空狀態(tài)下使電極之間形成高頻交變電場(chǎng)，區(qū)域內(nèi)氣體在交變電場(chǎng)的激蕩下，形成等離子體，活性等離子對(duì)被清洗物進(jìn)行物理轟擊與化學(xué)反應(yīng)雙重作用，使被轟擊與化學(xué)反應(yīng)雙重作用，使被清洗物表面物質(zhì)變成粒子，和氣態(tài)物質(zhì)，經(jīng)過抽真空排出，而達(dá)到清洗目的。
　　等離子清洗機(jī)是一種清洗設(shè)備，主要應(yīng)用于實(shí)驗(yàn)室、科研機(jī)構(gòu)、航空航天等高科技領(lǐng)域，其技術(shù)指標(biāo)非常高，因此，國(guó)內(nèi)起步較晚，國(guó)產(chǎn)技術(shù)尚不成熟。而國(guó)外品牌主要是歐洲的一些品牌較為先進(jìn)，度較高。
　　等離子清洗機(jī)產(chǎn)品特點(diǎn):
　　1.環(huán)保技術(shù)：等離子體作用過程是氣- 固相干式反應(yīng) ,不消耗水資源、無需添加化學(xué)藥劑,對(duì)環(huán)境無污染。
　　2.廣適性：不分處理對(duì)象的基材類型,均可進(jìn)行處理,如金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料都能很好地處理；
　　3.溫度低：接近常溫，特別適于高分子材料，比電暈和火焰方法有較長(zhǎng)保存時(shí)間和較高表面張力。
　　4.功能強(qiáng)：僅涉及高分子材料淺表面（10 -1000A ），可在保持材料自身特性的同時(shí)，賦予其一種或多種新的功能；
　　5.低成本：裝置簡(jiǎn)單，易操作維修，可連續(xù)運(yùn)行，往往幾瓶氣體就可以代替數(shù)千公斤清洗液,因此清洗成本會(huì)大大低于濕法清洗。
　　6.全過程可控工藝：所有參數(shù)可由PLC設(shè)置和數(shù)據(jù)記錄，進(jìn)行質(zhì)量控制。
　　7.處理物幾何形狀無限制：大或小，簡(jiǎn)單或復(fù)雜，部件或紡織品，均可處理。
　　等離子清洗機(jī)如超聲波清洗一樣，都是作為產(chǎn)品表面的一種清洗設(shè)備。但不同的是超聲波清洗機(jī)是提高產(chǎn)品表面的清潔度，例如產(chǎn)品表面的一些臟污，膠水，灰塵等可見物。以上這些通過等離子清洗是不能洗掉的，等離子清洗機(jī)只是提高產(chǎn)品的表面附著力，如產(chǎn)品表面附著力夠，進(jìn)行等離子處理后能有效的提高，方便下一道工序的使用。