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靜態(tài)滴膠就是簡(jiǎn)單地把光刻膠滴注到靜止的基片表面的中心，滴膠量為1-10ml不等。滴膠的多少應(yīng)根據(jù)光刻膠的粘度和基片的大小來(lái)確定。粘度比較高和/或基片比較大，往往需要滴較多的膠，以保證在高速旋轉(zhuǎn)階段整個(gè)基片上都涂到膠。動(dòng)態(tài)滴膠方式是在基片低速...

基本型等離子清洗機(jī)已應(yīng)用于各種電子元件的制造，可以確信，沒(méi)有等離子清洗機(jī)及其清洗技術(shù)，就沒(méi)有今日這么發(fā)達(dá)的電子、資訊和通訊產(chǎn)業(yè)。此外，等離子清洗機(jī)及其清洗技術(shù)也應(yīng)用在光學(xué)工業(yè)、機(jī)械與航天工業(yè)、高分子工業(yè)、污染防治工業(yè)和量測(cè)工業(yè)上，而且是產(chǎn)品...

AT-400原子層沉積是指通過(guò)將氣相前驅(qū)體交替脈沖通入反應(yīng)室并在沉積基體表面發(fā)生氣固相化學(xué)吸附反應(yīng)形成薄膜的一種方法原子層沉積過(guò)程由A、B兩個(gè)半反應(yīng)分四個(gè)基元步驟進(jìn)行：1）前驅(qū)體A脈沖吸附反應(yīng)；2）惰氣吹掃多余的反應(yīng)物及副產(chǎn)物；3）前驅(qū)體B...

微波等離子去膠機(jī)具有操作簡(jiǎn)單、效過(guò)好、無(wú)損傷、無(wú)劃痕、無(wú)殘留物、表面干凈光沾、無(wú)須干燥處理的特點(diǎn)。能夠去除較難處理的SU-8光刻膠或經(jīng)列體面改性的長(zhǎng)部能工作氣體可以采用氧氣和氫氣的混合物。利用象您氣體與5一8光到膠的化學(xué)反應(yīng)能夠快速將其去除...

勻膠旋涂機(jī)設(shè)備，包括弧形板，儲(chǔ)膠區(qū)，導(dǎo)流板，支撐柱和固定板，弧形板的弧度與使用的上膠輥外壁相同，弧形板的一側(cè)設(shè)置有儲(chǔ)膠區(qū)，與其對(duì)應(yīng)的另一側(cè)設(shè)置有導(dǎo)流區(qū)，弧形板頂部中心設(shè)置有兩個(gè)相同的支撐柱，任意支撐柱頂部設(shè)置有螺母，任意支撐柱和螺母之間設(shè)置...

德國(guó)UniTemp公司生產(chǎn)的RSS-160回流焊爐在中國(guó)科學(xué)院深圳先進(jìn)技術(shù)研究院深圳先進(jìn)電子材料國(guó)際創(chuàng)新研究院順利安裝成功，通過(guò)了學(xué)校組織的驗(yàn)收，得到使用者的認(rèn)可，正式投入科研工作。UniTemp真空回流焊的應(yīng)用Byung-GilJeong...

低溫探針臺(tái)用來(lái)無(wú)損檢測(cè)樣品的電性能，用于半導(dǎo)體、微電子、固體物理、納米、超導(dǎo)等研究冷域，是研究材料的電阻率、磁電阻等各種物理特性的有力工具。經(jīng)濟(jì)高效，穩(wěn)定，可靠，方便的改善在極低的真空和溫度下對(duì)器件和電路的探測(cè)。內(nèi)置振動(dòng)隔離，智能熱管理，使...

光學(xué)接觸角測(cè)量?jī)x是一種簡(jiǎn)單、快速、靈敏的方法測(cè)量固體表面的潤(rùn)濕性。且可間接測(cè)量固體表面能與液體表面張力。為手動(dòng)進(jìn)液、手動(dòng)滾動(dòng)角分析型,配置標(biāo)準(zhǔn)為手動(dòng)型進(jìn)液系統(tǒng)、標(biāo)準(zhǔn)配置滾動(dòng)角旋轉(zhuǎn)平臺(tái)、工業(yè)級(jí)輪廓鏡頭、優(yōu)化的石英玻璃柔光背景光源以及專(zhuān)業(yè)級(jí)的C...

微波等離子去膠機(jī)采用高密度2.45GHZ微波等離子技術(shù)，用于半導(dǎo)體生產(chǎn)中晶圓的清潔、去膠和等離子體預(yù)處理，微波等離子體清洗、去膠機(jī)具有高度活性、高效，且不會(huì)對(duì)電子裝置產(chǎn)生離子損害。它是石英腔的微波等離子系統(tǒng)，可以安裝到超凈間墻上。該系列的微...

勻膠旋涂?jī)x的工作原理是高速旋轉(zhuǎn)基片，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上，甩膠機(jī)常用于各種溶膠凝膠（Sol-Gel）實(shí)驗(yàn)中的薄膜制作，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同，也和旋轉(zhuǎn)速度及時(shí)間有關(guān)。其適應(yīng)于半導(dǎo)體、化工材料、硅片、晶...